基材和掩模
Ossila ITO玻璃，FTO玻璃和硅衬底的全系列以及用于制造OPV，OLED，OFET / TFT，传感器和薄膜表征的薄膜器件的相应沉积掩模。有关信息和支持，请参阅我们的处理指南和视频，或与我们联系。
光伏ITO玻璃基板和掩模（8像素）
使用Ossila最新的8像素设计，用于制造包括OPV，钙钛矿，CZTS等在内的实验室规模光伏设备的ITO玻璃基板和相关的沉积掩模。也可以用于OLED。标准尺寸（20 x 15毫米）。
OLED ITO玻璃基板和掩模（6像素）
ITO玻璃基板和相关的沉积掩模，用于使用Ossila原始的6像素设计制造实验室规模的OLED器件。标准尺寸（20 x 15mm）。这些基板可用于光伏，但是由于新型薄膜光伏的电流密度增加，我们现在建议设计8像素光伏基板，以最大程度地减小ITO串联电阻的影响。
25mm正方形PV和OLED ITO玻璃基板和掩模
ITO玻璃基板和相关的沉积掩模，用于在原型PV和OLED器件上制造大像素。标准尺寸（25 x 25mm）。这些基板由于易于加工且像素面积大，因此是制造钙钛矿设备的理想选择。
放大PV和OLED ITO基板，模块和掩模
ITO玻璃基板设计用于刮涂，喷涂，狭缝模头涂布和其他大面积沉积技术。用于生产OLED和OPV，既可以作为单个像素也可以作为微型模块。显微镜载玻片尺寸（25 x 75毫米）。
像素化阴极ITO玻璃基板和掩模（6像素，旧系统）
用于光电的旧图案化ITO的较旧设计现在已被8像素的光电基板所取代。
OFET基材-预制和预制
预制硅OFET基板（低密度和高密度），以促进并加快器件制造。
ITO OFET基板和掩模
ITO OFET /传感制造产品。
辅助底物
低密度OFET口罩
有源区荫罩，门罩和蒸发堆栈的集合，用于在Ossila的低密度OFET系统中制造OFET。
高密度OFET口罩
有源区荫罩，门罩和蒸发堆栈的集合，用于在Ossila的高密度OFET系统中制造OFET。
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