
Product Name | 520 MMP FRET Substrate V5 - FAM - PLGL - Dap(QXL® 520) - AR - NH2 |
Size | 0.1 mg |
Catalog # | AS-60572-01 |
US$ | $180 |
Purity | % Peak Area By HPLC ≥ 95% |
A sensitive substrate for assaying MMP-1, 2, 7, 8, 12 and 13 activities, Abs/Em = 494/521 nm. | |
Detailed Information | ![]() ![]() ![]() |
Storage | -20°C |
Molecular Weight | 1560.6 |
5-FAM-PLGL-Dap(QXL® 520)-AR-NH2 | |
Sequence(Three-Letter Code) | 5 - FAM - Pro - Leu - Gly - Leu - Dap(QXL® 520) - Ala - Arg - NH2 |
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2、检测电感量,电阻及阻抗,那要看客户的要求。
3、磁珠是有电感值要求的。 电感值的高低 代表了磁导率的高低。电感值越大,阻抗越高。(前提是磁芯的磁导率高频衰减小,阻抗就高)
有机学的不好,各位大神,谁知道酮羰基为什么比酯基和酰氨基稳定吗?感谢!!!!!
1、该制剂为肌肉注射;
2、制备该微球过程中用到了二氯甲烷、乙醇、正庚烷、二甲基硅油。国家药典有机溶剂残留规定:二氯甲烷残留限度为0.06%;乙醇残留限度为0.5%;正庚烷残留限度0.5%;二甲基硅油药典中还为収载。目前自制微球的二氯甲烷残留约0.2%左右,正庚烷残留1.0%左右,乙醇残留0.3%左右,二甲基硅油暂未检测。很明显:二氯甲烷和正庚烷超标。后来测了一下原研制剂的有机溶剂残留:二氯甲烷残留约0.1%左右,正庚烷残留1.5%左右,乙醇残留0.2%左右。本人也制剂新手,请各位大神帮帮忙,积极发言。我这个长效缓释PLGA微球制剂中有机溶剂残留限应该定多少合适,我后期优化工艺时对上述有机残留应该控制到多少一下合适。
我一般用加样枪,直接在膜上来回涂,可是涂得很不均匀,有的时候还把膜划破损了。大家是怎么做的呢??

